February 22 - 26, 2026 | San Jose, California, USA
SPIE Advanced Lithography + Patterning
From materials to metrology: pushing the limits of lithography
At [NL] SPIE Advanced Lithography + Patterning
Deze dummy-inhoud zet Advanced Lithography + Patterning neer als een technisch sterk evenement rond lithografie, patroonvorming en de precisie die daarvoor nodig is.
Voor imec is dit een logische plek om materiaalonderzoek, metrologie en productie-inzichten kort te kaderen op een manier die geloofwaardig blijft voor een gespecialiseerd publiek.
Lithografie, patroonnauwkeurigheid en procescontrole vormen hier de kern.
Een geschikt kader om imec te positioneren rond materialen, metrologie en maakbaarheid.
De toon blijft bewust technisch en inhoudelijk, eerder dan promotioneel.